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真空分散均質制膏機膏劑機械

簡要描述：真空分散均質制膏機性能，連續工作處理量大，可循環均質出料，特別適用于單品種產品的連續處理；操作使用簡單，乳化均質更佳；水冷式均質密封結構，克服普通密封漏料難題

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詳細介紹

品牌	金宗機械	產地	國產
產品新舊	全新

一、真空分散均質制膏機性能：

1、處理能力：連續工作處理量大，可循環均質出料，特別適用于單品種產品的連續處理。

2、操作便利性：操作使用簡單，乳化均質效果更佳。

3、密封結構：采用水冷式均質密封結構，有效克服普通密封漏料難題。

4、均質效能：

- 在內循環工作狀態下，均質效果等同于 VME 型真空機均質效能。

- 在外循環均質狀態下，物料從鍋底部吸入，經過均質器強力分散、離心作用，通過特定管道送入鍋體上部，實現物料循環均質。

- 高速均質時，能使物料達到 3 次/分的乳化能力。

真空均質制膏機

二、真空分散均質制膏機特點：

1、均質器優勢：

- 采用*的均質器，保證物料光澤細膩。

- 均質速度為兩級速度。

2、外循環結構：啟用外循環結構，使物料得到充分乳化、均質。

3、真空消泡與衛生：

- 真空消泡，無細菌污染。

- 使用呼吸器，防止空氣中粉塵、雜質進入乳化槽。

4、出料方式：

- 均質機可低速出料，且不破壞乳化成分。

- 也可采用空壓出料。

5、攪拌系統：

- 采用雙重刮邊攪拌及變頻調速。

- 可滿足不同工藝要求的生產。

6、材質與拋光：

- 材質為進口 SUS304 或 SUS316L 不銹鋼。

- 罐體及管道為鏡面拋光，*符合 GMP 規范。

7、真空脫泡：真空脫泡能使物料達到衛生無菌要求，并可采用真空吸料，特別對粉料可避免粉塵飛揚。

8、加熱與冷卻：

- 根據工藝要求，罐體可加熱或冷卻物料。

- 加熱方式可根據客戶要求選用蒸汽或電加熱。

9、電控系統：

- 采用電控系統，采用 PLC 控制。

- 配有真彩觸摸屏，全面監控物料溫度、攪拌及均質轉速。

三、真空均質制膏機技術參數：